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第258章 遥遥领先（第2页）

在张卿雄厚的资金支持下，ASML成功推出了PAS5500光刻系统，这无疑是公司发展史上的一座丰碑。

当前世界的半导体领域正面临着巨大挑战，光刻机的光源波长卡在了193纳米，迟迟无法突破。

由于水对193纳米光的折射率高达1。44，这意味着当原有的193纳米激光穿过水时，根据光学原理，其波长会被压缩，从而有可能降低许多。

然而，现实情况却并非如此简单。

当时的大多数企业都沉浸在干式光刻机成功的舒适圈内，不愿轻易冒险去尝试新的技术路线，也不愿意打破现有的安稳局面。

这个难题如同一块沉重的石头压在整个行业的心头，持续困扰着世界长达二十余年之久。

直到90年代末，这个问题才会得到解决。

而对于ASML来说，这无疑是一个重要的机遇。

凭借着张卿钞能力的支持，华积电与ASML展开紧密合作，并最终成功地研制出了全球首台利用水折射的沉浸式光刻机。

这一创新成果令人瞩目，其光源波长仅为132纳米，使得光刻机能够实现更高的分辨率。

通过这种浸入式光刻技术，原本看似无法逾越的157nm难关被轻松跨越，直接将芯片制程提升至65nm水平。

相较于之前广泛应用的90nm工艺而言，65nm工艺具有显着优势。

它使得CPU内部能够集成更多数量的晶体管，为处理器赋予更强大的功能和卓越的性能表现。

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这不仅是技术的突破，更是半导体产业向前迈进的关键一步。

与此同时，65纳米工艺还能带来一个显着的好处：它使得CPU的核心面积得以进一步缩小。

这意味着在同样大小的晶圆上，可以制造出更多的CPU核心，从而有效降低生产成本。

不仅如此，这种工艺还能降低处理器的功耗，减少处理器的发热量，并在一定程度上提高处理器的极限频率。

基于以上优势，兴华科技预计将在未来三个月内推出一款全新架构的65纳米工艺制程的桌面处理器——蛟龙贰系列。

然而，张卿并没有计划将这项先进的技术公之于众。

相反，他决定将其应用于军事工业领域，以实现该领域半导体设备的全面升级。

他认为，只有当他拥有足够强大的军事实力时，才适宜将这些技术推向市场。

毕竟，如果按照正常的历史进程，英特尔公司要到2006年才能掌握类似的技术。

沉浸光刻技术的成功研发给了张卿新的希望，他开始指示ASML投入深紫外光刻和极紫外光刻（EUV）的研究工作。

随着芯片的大成功，张卿终于有足够的底气来推动AI的发展了。

如今的世界，AI已经走过了漫长而曲折的道路。

从1956年到60年代初，那是AI的起步阶段，也是人工智能概念提出后的黄金时期。

当时，一系列惊人的研究成果纷纷涌现，如机器定理证明、跳棋程序等等，这些成就引发了全球范围内的关注与热议，掀起了人工智能发展的第一个高潮。

然而，正如历史所证明的那样，任何事物都不可能一帆风顺。

接下来的时间，AI进入了一个艰难的反思发展期。

20世纪60年代至70年代初，人们对AI的期望被无限放大，但同时也带来了巨大的挑战。