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第299章 加快专利申请（第1页）

中微公司实验室内部，威廉姆斯团队进行关键技术验证。李明作为杰凡星投资的法人代表，专程来了解最新进展。

“这是我们的创新方案。”威廉姆斯指着显微镜下的纳米光学涂层，“通过特殊的材料配比和工艺控制，我们实现了光透过率的大幅提升。”

尹志绕继续补充道：“最新测试数据，光透过率比传统提高了35%。这意味着我们可以采用更长波长的光源方案，实现与短波长相同的分辨率。”

“完全规避了美国的专利壁垒？”李明杰问出了关键。

“是的。”威廉姆斯自信地说，“传统光刻机都在追求更短的波长，我们另辟蹊径，通过创新的光学系统设计和纳米涂层技术，找到了一条全新的技术路线。”

正说着，中科院光电所的张教授走进实验室。作为国内纳米光学领域的权威，他受邀来验证这项突破性技术。

“理论模型很完善。”张教授看完测试数据后说道，“关键是工艺稳定性。目前的良品率如何？”

“首批样品测试的良品率达到85%。”威廉姆斯说，“我们正在优化工艺参数，力争提高到90%以上。”

“这个数据很惊人。”张教授赞叹道，“要知道，即使是ASML，他们新技术的良品率也很难达到这个水平。”

李明杰追问：“量产还有哪些难点？”

“主要是三个方面。”尹志绕说，“首先是纳米工艺涂层材料的批量生产，目前正在与南大光电合作开发。其次是精密控制系统，需要进一步提高稳定性。最后是集成，要确保各个环节无缝衔接。”

“时间预估？”

“如果一切顺利完成，三个月内就可以工程样机。”威廉姆斯说，“接下来就是反复测试和优化，为量产做准备。”

就在此时，中微的法务总监匆匆赶来：“刚收到消息，ASML正在申请一批新专利，可能会影响我们的技术路线。”

威廉姆斯仔细查看专利申请文件，立即说道：“不用担心。他们的专利主要围绕短波长光源，与我们的技术路线完全不同。这反而证明我们走对了路。”

“要抢先布局。”李明杰说，“要让业务团队加快专利申请，在全球主要市场同步推进。另外，核心技术资料要做好防护措施。”

“已经做了。”尹志绕说，“我们采用分段保密方式，将核心技术分割成多个模块，分别存储和管理。任何单一泄露都不会影响整体技术安全。”

这时，市科技局的工作人员来访，带来了一个好消息：星城市的半导体创新中心即将投用，将为中微提供更好的研发环境。

“太及时了。”威廉姆斯说，“我们正需要更先进的实验设备。特别是超定位测试平台，对工艺优化至关重要。”

李明杰立即拨通了哥哥李一凡的电话。作为分管经济的省委常委，他需要了解这一重要进展。

“技术突破有了，但量产还需要时间。”李明杰简要汇报，“不过最令人欣慰的是，我们找到了一条完全自主的技术路线。”

“这是关键。”李一凡说，“技术创新不能总是跟在别人后面。要利用这个机会，在新的模仿上实现超越。”

作为光刻胶研发的领军企业，南大光电与中微的技术突破密切相关。

“这是最新的测试报告。”南大光电技术总监王立新表示，“我们开发的新型光刻胶，完全匹配中微米的纳米光学系统。不仅提高了分辨率，还提高了曝光效率。”

“专利布局做的怎么样？”李明杰问。

“已经在美国、日本、同步申请。”王立新说，“这次我们总结了之前的教训，在配方和工艺上欧洲都做了充分的专利保护。即使是美国企业也别想仿制，同时也加强了我们的专利壁垒。”