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而且,我们的合作伙伴中芯也定了一台,同样因为外部干预没有交货。”
“砰!”罗朝斌忍不住拍了下桌子,想骂一个马勒戈壁的。
但脸上怒容一闪而逝,最终化为沉重的叹息。
“所以,”孟良凡双手撑在桌面上,语气充满了不甘却又无比坚定,“我们只能,也必须,在现有的DUV光刻机上,进行极限操作,走一条无比艰难、但充满智慧的‘迂回之路’!这就是N+1、N+2!”
他开始深入解释N+1工艺的本质和巨大挑战:
“N+1,本质上是在我们14nmFinFET工艺平台上,通过一系列登峰造极的‘技术魔术’去无限逼近更高制程的性能。当然这里面的核心就是多重曝光。”
他用了一个形象的比喻:
“这就好比,别人开着装备了顶级GPS和引擎的越野车(EUV)在平坦大道上飞驰。
而我们,被没收了关键装备,只能开着一辆性能不错的家用轿车(DUV)。
但我们凭借对地图的极致研究(物理和工艺理解)和超凡的驾驶技术(多重曝光等复杂工艺),硬是要在一条布满巨石和深坑的崎岖山路上,蹚出一条能到达目的地的通道。”
“代价是什么?”孟良凡自问自答,语气沉重。
“代价是工艺步骤复杂度成倍增加,生产周期大幅拉长,初始良率惨不忍睹,以及单个芯片成本的急剧飙升!
代价是在冯总和陈总不遗余力的配合下,今年3三月把良品率才很勉强得提高到了68%,目前还在艰难爬坡中!
这是一种‘笨’办法,一种‘苦’办法!
但,这是我们唯一能掌握能通向自主高端的生命线!”
他看向汪剑锋,又看向陈默:
“所以,汪总,您问最大的挑战和需要什么支持?
挑战在于,我们需要在工艺、设计、工具链三个维度,同时进行极限突破,容不得任何一块短板!
需要的支持是,集团必须持续给予我们超越常规的耐心、资源和政策倾斜,理解并接受N+1初期在成本和效率上的‘不完美’。”
孟良凡的陈述,将N+1之路的艰难与决绝展现得淋漓尽致。
他将目光投向陈默,眼神中充满了“神兵利器”的渴求,也带着并肩作战的战友的期待与挑战。
“陈总,”孟良凡的语气无比郑重。
“您也知道N+1的艰难。
这条路,对EDA工具链的要求,是颠覆性的。
它要求工具不再是被动适应规则,而是要主动驱动设计、预测制造、赋能工艺!”
他转向全场,详细列举出N+1给EDA带来的具体、严峻的挑战,每一项都直指核心:
“第一,设计规则的复杂性与强制性。
多重曝光导致设计规则数量爆炸式增长,且规则之间关联性极强。
EDA工具必须能理解、消化并强制推行这套‘天书’,还能智能识别和规避规则冲突,否则版图根本无法制造。”
“第二,模型精度必须逼近物理极限。
在N+1尺度下,量子效应、统计涨落效应凸显。
我们需要原子级精度的器件模型,需要电-热-力多物理场耦合仿真平台。
模型失之毫厘,流片结果可能谬以千里!”
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